重庆某光电器件存储芯片生产粗加工厂，晶圆粗加工全过程中所产生含硅、氟的独特焦化废污水，设汁治疗占比1200吨/日。焦化废污水材质繁杂，具有nm级硅顆粒及盐酸，老式治疗的办法难易标准。 废液部分及源头 关键水大气污染物 ：溶液硅（100-500nm粒度分布）、氟亚铁离子（200-300mg/L）、异丙醇 起源工艺程序 ：晶圆刻蚀污水（45%）、CMP化学上的机械化抛光处理污水（40%）、设施清扫冲洗水（15%） 鑫霖环保具体流程具体流程 创新性主要采用"耐腐蚀悠长岁月中+特种车膜脱离"技术水平交通路线： 钙盐悠长岁月中 ：加药系统氯化钙我们要除氟铁离子（转为CaF2石雕文化沉淀） 水解酸化池反映 ：混合斜管沉淀池剂保持悬浊液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm孔经膜截流微细颗料 反固化体统 ：脱盐率>98%，回收公司率75% 减压蒸馏成果 ：浓水段实现目标氟化物零排卸 最终能够成效 氟化物渗透压：<8mg/L（降到国家的1级规则10mg/L） 硅纯度：<5mg/L 水信息造纸废水处理率：70%中用冷却水塔保湿补水 危险废弃物回收利用：蒸发掉碎渣量较民俗艺下降60%