某半导体技术制作公司因晶圆清理道工序造成含氨化工废水，的水量200吨/天。化工废水里除氟化物外还含有氟化物和轻微天价属，解决高难度大。当地政府排放量标淮让氟化物＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理基本成分及源 晶圆清洁生产废水（具体原因）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工序工业废水：含进样器铜、镍等血本属，pH值起伏大 CMP磨研废渣：含硅颗料及高锰酸盐指数 处理技术具体步骤 按照"化学上的滤渣+膜剥离+折点氯化"女子组合工艺设备： 预解决 ：加药系统CaCl2除氟，把握pH在7.5-8. 超滤膜模式 ：快速清理0.01μm之上粒子物 反构建浓缩造成 ：将氧化还原电位高浓至1000mg/L之上 折点氯化 ：小于把控好氯加药量，将氟化物图片转换为惰性气体 铝离子交易 ：后勤保障血本属考核标准 不可能使用效果 氯离子固定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属纯度最低在线检测限 水回收利用率达75% 活性污泥引起量少40%