高性能光电材料废水怎么处理|高性能光电材料废水如何处理
该单位是中国国内顶尖的LED基带芯片形成商,生产加工过程中中形成大量的含高价属、有机物溶液及高质量浓度值挥发酚的污水。鉴于污水化学物质繁杂且被固体废弃物质量浓度值高,常用净化清理具体方法无从标准尾气排放,单位急需要一系列有效率、增强的污水净化清理设计。
废渣部分及因素
蚀刻废液
:含铜、镍等高价属阴离子,pH值振幅大。
有机会焦化废水
:产自光刻胶洗掉生产工艺,含异丙醇、二甲苯等有机物高沸点溶剂,COD高达到5000mg/L以内。
氟化物废渣
:发源普通机械色谱堆积(CVD)施工工艺,氧化还原电位氧化还原电位超800mg/L。
进行处理工艺程序流程程序流程
预清理时段
调高池
:教育均衡发展水体质量储水量,降低影响负担。
化工沉淀物中
:加药NaOH控制pH至9-10,使血本属成型氢氮化合物物积累,删去率>95%。
生物化工作步骤
厌氧反应器酸性反应
:分解的脂溶性式充分物,提高了工业废水可生物化学性。
A/O工序
(好氧池-好氧三人组合):主要采用效率高反硝化细菌细菌-反反硝化细菌细菌的技术,氧化还原电位剔除率>98%。
深浅进行处理关键期
活性酶炭粘附
:进十步的还原农药残留有机会物,事关COD<50mg/L。
膜过滤系统
(UF+RO):实现了废水处理回收利用,回收利用率>70%。
最终能够体验
有水出水质量超过《水量全方位的尾气排放条件》(GB 8978-1996)三级条件。
血本属含锌量不超过0.5mg/L,COD<50mg/L,氟化物<5mg/L。
第二年增多废水处理方法减排量约40万吨,中水回用水广泛用于工作线的洗涤加工过程,合理利用利润约1100万元/年。